กรุณาปิด โปรแกรมบล๊อกโฆษณา เพราะเราอยู่ได้ด้วยโฆษณาที่ท่านเห็น
Please close the adblock program. Because we can live with the ads you see


ข่าว Intel Foundry ติดตั้งเครื่องจักร EUV แบบ High-NA สำเร็จเป็นรายแรก พร้อมผลิต 18A ในปี 2025

News 

Moderator
สมาชิกทีมงาน
Moderator
Verify member
เข้าร่วม
1 มิถุนายน 2011
ข้อความ
11,483
คะแนนปฏิกิริยา
0
คะแนน
0
Intel Foundry หน่วยงานด้านการผลิตชิปของอินเทล ประกาศความก้าวหน้าสำคัญในการติดตั้งเครื่องผลิตชิป EUV แบบ High-NA (Numerical Aperture) ที่ใช้ในทางพาณิชย์เครื่องแรกที่หน่วยงานวิจัยพัฒนาของอินเทล ในเมืองฮิลส์โบโร รัฐออริกอน

เครื่องจักร High-NA EUV นี้ผลิตโดย ASML รุ่น TWINSCAN EXE:5000 ซึ่งอินเทลเป็นลูกค้ารายแรกที่รับมอบเครื่องเมื่อปลายปีที่แล้ว

อินเทลบอกว่าเครื่องจักร High-NA EUV จะช่วยพิมพ์วงจรขนาดเล็กถึง 1.7 เท่า ของเครื่องจักร EUV ที่มีปัจจุบัน ทำให้อัดวงจรที่มิติ 2D ได้หนาแน่นขึ้นถึง 2.9 เท่า โดยอินเทลจะนำมาช่วยในการผลิตชิป Intel 18A (เทียบเท่า 2 นาโนเมตร ของ TSMC) ตามแผนงานภายในปี 2025 และนำมาใช้ในการผลิตชิป Intel 14A (1.4 นาโนเมตร) ต่อไป

ที่มา: อินเทล

No Description


Topics:
Intel
Semiconductor
ASML

อ่านต่อ...
 

กรุณาปิด โปรแกรมบล๊อกโฆษณา เพราะเราอยู่ได้ด้วยโฆษณาที่ท่านเห็น
Please close the adblock program. Because we can live with the ads you see
กลับ
ยอดนิยม